Theta Wafer晶圓接觸角測量儀是一款的晶圓全自動(dòng)接觸角測量儀器。該儀器包括Theta Flow光學(xué)接觸角測量儀主機(jī)，可配置四個(gè)具有軟件控制、可水平移動(dòng)、可拋棄滴液頭的自動(dòng)滴液器，以及帶自動(dòng)旋轉(zhuǎn)的全自動(dòng)XYZ樣品臺(tái)。

晶圓上的接觸角測量對于評(píng)估這些材料的潤濕性和表面特性至關(guān)重要，這些材料廣泛應(yīng)用于電子制造。通過評(píng)估液滴與晶片表面接觸的角度，研究人員可以深入了解硅的表面能和粘附性能。這些信息對于優(yōu)化半導(dǎo)體制造中的涂層、光刻和鍵合等工藝至關(guān)重要。了解接觸角有助于確保晶片與生產(chǎn)過程中使用的各種材料之間的預(yù)期相互作用，最終提高電子設(shè)備的性能和可靠性。

晶圓接觸角測量儀應(yīng)用

• 研究表面清潔度

接觸角測量可以評(píng)估晶圓的清潔度，從而來評(píng)估表面污染物和殘留物的去除情況。

• 確定表面自由能

通過測量接觸角，可以推斷出表面自由能，這對于理解其他材料如何與晶圓相互作用至關(guān)重要。

• 了解粘附性能

接觸角有助于確定應(yīng)用于晶圓的涂層和薄膜的粘附性能。

• 研究親水性/疏水性

測量接觸角可以確定晶圓表面是親水還是疏水，從而影響光刻和蝕刻等工藝。

• 用于質(zhì)量控制

定期的接觸角測量可以作為質(zhì)量控制過程的一部分，以確保晶圓加工和處理的一致性。

支持晶圓接觸角測量的軟件功能

• 批量模式，用于對一排多個(gè)晶圓進(jìn)行快速測量。

• 標(biāo)準(zhǔn)座滴法，可進(jìn)行更深入的分析。

晶圓自動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)

Theta Wafer晶圓樣品臺(tái)是一種由軟件控制的電動(dòng)平臺(tái)，用于旋轉(zhuǎn)晶圓，以實(shí)現(xiàn)直徑高達(dá)12英寸晶圓的接觸角自動(dòng)定位測量。

Theta Wafer晶圓樣品臺(tái)包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)（T340R）和晶圓臺(tái)面（T340RW）。晶圓臺(tái)面的插銷有助于晶圓的高精度對準(zhǔn)和定位。定位銷還有助于在測量過程中將晶圓保持在適當(dāng)?shù)奈恢?。為了進(jìn)一步固定晶圓，還可以通過內(nèi)置的真空連接口連接到真空泵。

Theta Wafer晶圓樣品臺(tái)連接到自動(dòng)XYZ樣品臺(tái)，可以自動(dòng)定位直徑高達(dá)12英寸的晶圓。為了最大限度地提高旋轉(zhuǎn)臺(tái)的性能，建議將其與四個(gè)可拋棄滴液頭滴液器結(jié)合使用。這將允許自動(dòng)進(jìn)行表面自由能測量，或者在只使用水的情況下增加連續(xù)的測量次數(shù)。

產(chǎn)品參數(shù)

樣品規(guī)格

其他